Antibióticos residuais podem causar o fenômeno da resistência antimicrobiana, caracterizada pela capacidade das bactérias presentes no meio serem tolerantes aos efeitos dos antibióticos. Com isso, a aplicação de métodos degradação baseados em processos oxidativos avançados são atrativos. o objetivo dessa pesquisa foi avaliar a degradação da ciprofloxacina (CIP) nos processos Fenton, foto-Fenton e fotólise direta, por meio de delineamentos experimentais e do estudo cinético. As variáveis pH, concentração de H₂O₂ e concentração de Fe²⁺ foram previamente otimizadas empregando DCCR 2³, sendo as determinações analíticas realizadas em espectrofotômetro. Para a obtenção das taxas de reação e o tempo de meia-vida, os dados experimentais foram ajustados a modelos cinéticos. A otimização indicou 48 mg L^-1 de H₂O₂,  24 mg L^-1, para Fe²⁺ e pH igual a 2, sendo estes utilizados em todas as etapas posteriores. Foi observada uma maior degradação da ciprofloxacina empregando o processo foto-Fenton, que foi capaz de remover cerca de 90%, seguido dos processos Fenton e fotólise direta, que foram capazes de degradar aproximadamente 34% do analito no tempo de 200 min, respectivamente. O estudo da cinética de degradação foi aplicado ao foto-Fenton, nas condições estudadas, apresentando melhor ajuste ao modelo de primeira ordem com uma constante k igual a 0,02 min^-1 e um tempo de meia vida de 35 min. Tais resultados sugerem que a aplicação do processo foto-Fenton para a degradação da CIP em soluções aquosas contaminadas é um método promissor.